منبع تغذیه Advanced Energy MDX Pinnacle به طور گسترده‌ای در صنعت نیمه‌هادی‌ها، به ویژه برای فرآیندهای پلاسمایی مانند *پوشش‌دهی* و *اسپاترینگ* استفاده می‌شود. این دستگاه به دلیل قابلیت تنظیم دقیق ولتاژ و مدیریت کمان‌های الکتریکی برای بهبود کیفیت فرآیندها و کاهش خرابی‌های احتمالی محبوب است. **کاربرد جدید پیشنهادی** برای این منبع تغذیه می‌تواند در *تولید مواد پیشرفته* مانند **نانومواد** باشد. در فرآیندهایی مانند *کاشت یون‌ها* یا *ته‌نشینی بخار شیمیایی تقویت‌شده با پلاسما (PECVD)* که برای ساخت نانومواد پیشرفته یا لایه‌های نازک مورد استفاده قرار می‌گیرد، این دستگاه می‌تواند نقش مؤثری ایفا کند. با توجه به دقت بالا و کنترل ولتاژ پایدار، این منبع تغذیه قادر است در تولید مواد با ساختارهای دقیق در مقیاس نانو، به‌ویژه در صنایع *فوتونیک* و *الکترونیک نوری* مؤثر باشد. علاوه بر این، با توجه به قابلیت‌های افزایش یافته این دستگاه‌ها مانند مدیریت بهتر کمان‌ها و عملکرد پالس DC، می‌توان آن را برای بهبود فرآیندهای *ساخت سلول‌های خورشیدی* و **نمایشگرهای با کیفیت بالا** نیز به کار گرفت. این منبع تغذیه می‌تواند به تولید فیلم‌های دی‌الکتریک یکنواخت با بازده بالا کمک کند، که در این صنایع بسیار اهمیت دارد. این کاربردها می‌تواند به گسترش دامنه استفاده از منبع تغذیه *MDX Pinnacle* در حوزه‌های نوین کمک کند و استفاده از آن را فراتر از صنایع سنتی مثل تولید CD و نیمه‌هادی‌ها ببرد.
منبع تغذیه
Advanced Energy MDX Pinnacle 3152352-103C
یک منبع تغذیه‌ی پیشرفته برای کاربردهای صنعتی است که به‌ویژه در فرآیندهای لایه‌نشانی نازک و پوشش‌دهی پلاسما استفاده می‌شود. این دستگاه با ورودی سه فاز 400VAC کار می‌کند و توان خروجی **8 کیلووات** ارائه می‌دهد، که آن را برای وظایف سنگین در صنایعی مانند ساخت نیمه‌رساناها و سایر کاربردهایی که به کنترل دقیق انرژی نیاز دارند، مناسب می‌سازد.
ویژگی‌های کلیدی این دستگاه شامل موارد زیر است:
1. **بهره‌وری بالا**: بهره‌وری بیش از 87 درصد و ضریب توان بالای 0.90 برای بارهای بالای 2 کیلووات.
2. **خروجی چندمنظوره**: قابلیت کارکرد به‌عنوان منبع ولتاژ، جریان یا توان، که امکان استفاده در فرآیندهای مختلف را فراهم می‌کند.
3. **کنترل دقیق**: این دستگاه قابلیت برنامه‌ریزی برای محدودیت‌های خروجی، مدیریت آرک (جوش‌های الکتریکی ناگهانی) و تنظیم دستورالعمل‌های پردازش را دارد که منجر به بهبود کیفیت و ثبات در فرآیندها می‌شود.
4. **نویز پایین و مدیریت پیشرفته آرک**: با استفاده از فناوری پیشرفته، نویز ولتاژ خروجی به حداقل رسیده و ویژگی‌هایی مانند حالت **TCC** (چرخه آماده‌سازی هدف) جهت مدیریت آرک‌ها به کار گرفته می‌شوند تا عملکرد یکنواخت‌تری داشته باشد.
5. **رعایت استانداردها**: این دستگاه با استانداردهای ایمنی و الکترومغناطیسی (EMC) مطابقت دارد و دارای نشان CE است که تضمین کننده‌ی رعایت دستورالعمل‌های مربوط به ایمنی و کارایی است
این کاربردهای اسپاترینگ** برای ایجاد لایه‌های نازک و پوشش‌دهی مواد مختلف مورد استفاده قرار می‌گیرد، جایی که پایداری توان برای کیفیت محصول بسیار حائز اهمیت است